Nd-Fe-B (boro di ferro al neodimio) Linea di produzione di rivestimenti in ceramica
NdFeB (boro di ferro al neodimio) Superficie di rivestimento del rivestimento di metallizzazione del chip di ceramica, adottare il processo di sputtering del magnetron, depositare film di metallo terbio (Tb) o film di disprosio (Dy) sulla superficie del chip in ceramica NdFeB e migliorare le prestazioni della ceramica magnetron mediante trattamento di diffusione .
- introduzione al prodotto
Parametri tecnici
1. Spazio di installazione efficace : W7000XL23000XH1500mm | 7. Spuntatura: sputtering magnetron DC |
2. Camera a vuoto : W1650XL16400XH500mm | 8. Velocità di deposizione: <> μm per volta, precisione 0,5nm |
3. Telaio di carico: W1050XL1050 | 9. Design: camera di vuoto e progettazione della modularizzazione del processo |
Materiale 4.Target: Target gemellato W110XL1050mm o Target gemellato Ф 110XL1050mm | 10. Processo: misuratore di portata e gas di processo controllato da valvola |
5. pezzo di lavoro: chip di ceramica, lo spessore è 2-15mm | 11. Fonte di alimentazione: 380 V 50 Hz |
6. Intervallo vuoto: ATM-6X10 -4 Pa | 12. Flangia esterna: KF16 e KF25 |
13. Sistema di aspirazione: pompa rotativa, pompa di radice e pompa molecolare |
Magnete al neodimio NdFeB
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