PVD metodo di pre-pulizia 3 pulizia cottura

PVD metodo di pre-pulizia 3pulizia cottura

Metodo di pulizia: metodo di pulizia della cottura
Scopo della pulizia: rimuovere le molecole d'acqua
Mezzi di pulizia: il substrato viene riscaldato
Processo di pulizia: il substrato viene riscaldato a 200°C in un vuoto elevato per rimuovere il liquido di pulizia residuo e l'umidità sul substrato. Può anche essere riscaldato ad un'alta temperatura di 300-500 °C nell'atmosfera e il tempo di guarigione è di 30-60 minuti.

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