Il rivestimento sputtering può essere diviso in:
Mar 11, 2021| Il rivestimento sputtering può essere diviso in:
Sputtering a dipolo DC: applicabile solo ai film conduttivi
Sputtering tripole DC: applicabile solo ai film conduttivi
Sputtering quadrupolo DC: applicabile solo alla pellicola conduttiva
Sputtering a radiofrequenza: utilizzando l'alimentazione a radiofrequenza, può essere placcato ossido di silicio, materiali di allumina
Sputtering di destinazione opposto: può aumentare la velocità di deposizione e realizzare ferro magnetico, nichel e altre pellicole in lega magnetica
Sputtering del fascio ionico (IBS): Emissione di ioni da una sorgente ioniche
Sputtering Magnetron:
L'analizzatore di zolfo in carbonio si basa sullo sputtering del dipolo CC e l'acciaio magnetico è posizionato dietro il materiale di destinazione, utilizzando l'emissione di luce ad arco
Elettricità, utilizzata come fonte di evaporazione.
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