Tipi e caratteristiche dei dispositivi PVD
Nov 18, 2022| Tipi e caratteristiche dei dispositivi PVD
In base alla differenza nel meccanismo fisico durante la deposizione, la deposizione fisica da vapore è generalmente suddivisa in tecnologia di rivestimento per evaporazione sotto vuoto, rivestimento per sputtering sotto vuoto, rivestimento ionico ed epitassia a fascio molecolare. Negli ultimi anni, lo sviluppo della tecnologia a film sottile e dei materiali a film sottile ha compiuto notevoli progressi. Sulla base originale, c'erano la tecnologia di deposizione potenziata del raggio ionico, la tecnologia di deposizione della scintilla elettrica, la tecnologia di deposizione fisica del vapore del fascio di elettroni e la tecnologia di deposizione a getto multistrato.
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