Rivestimento sputtering magnetron sbilanciato

Rivestimento sputtering magnetron sbilanciato
Lo sputtering sbilanciato del magnetron si riferisce al flusso magnetico ineguale dei poli magnetici all'interno e all'esterno del catodo. Il ruolo di un campo magnetico sbilanciato è quello di intrappolare gli elettroni secondari in rapido movimento che fuoriescono dalla superficie del bersaglio. Questi elettroni si ionizzano con atomi di gas neutri lontani dalla superficie bersaglio e producono più ioni e più elettroni nella regione del substrato, aumentando così notevolmente il bombardamento ionico del substrato. A causa dello sviluppo dello sputtering sbilanciato del magnetron, la qualità dei film sottili è stata notevolmente migliorata.

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