Rivestimento sputtering sotto vuoto
Apr 29, 2024| Rivestimento sputtering sotto vuoto
Il principio di base del Vacuum Sputtering è quello di fare in modo che l'argon si scarichi luminescente sotto la condizione di vuoto riempito con gas argon (Ar), quindi gli atomi di argon (Ar) si ionizzano in ione argon (Ar+), lo ione argon accelera sotto l'azione della forza del campo elettrico per bombardare il bersaglio del catodo fatto di materiale di placcatura, il bersaglio verrà spruzzato e depositato sulla superficie del pezzo.
A seconda della corrente utilizzata, il processo può essere ulteriormente suddiviso in sputtering CC utilizzando scarica a bagliore CC, scarica a bagliore RF sputtering RF e scarica a bagliore magnetron (M) causata dallo sputtering magnetron.
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