vari tipi di apparecchiature CVD

Esistono vari tipi di apparecchiature CVD. Attualmente, PECVD è la tecnologia principale e si prevede che la sua quota di mercato aumenterà ulteriormente in futuro. CVD, una nuova tecnologia sviluppata negli ultimi decenni per preparare materiali inorganici, si riferisce al processo in cui sostanze allo stato gassoso o vapore reagiscono sulla fase gassosa o sull'interfaccia gas-solido per generare sedimenti solidi. La deposizione chimica da vapore (CVD) è stata ampiamente utilizzata per purificare sostanze, sviluppare nuovi cristalli e depositare tutti i tipi di materiali a film sottile inorganici monocristallini, policristallini o vetrosi. Questi materiali possono essere ossidi, solfuri, nitruri, carburi o composti interelementi binari o multivariati dei gruppi III-V, II-IV e IV-VI e le loro funzioni fisiche possono essere controllate con precisione mediante processi di deposizione di drogaggio in fase gassosa. La ripetibilità del rivestimento CVD e la copertura del passaggio sono buone e possono essere utilizzate per SiO2, Si3N4, PSG, BPSG, TEOS e altri film medi, nonché semiconduttori, metallo (W), tutti i tipi di deposizione di film di composti metallo-organici. Esistono molti tipi di CVD, che possono essere suddivisi approssimativamente in APCVD, LPCVD, SACVD, PECVD, MOCVD e altre categorie in base alla pressione della camera e all'energia esterna. L'attrezzatura CVD è facile da ottenere fonti di reazione, i componenti del rivestimento sono diversi e l'attrezzatura è relativamente semplice, particolarmente adatta per la superficie di parti di forma complessa e il rivestimento del foro interno.

Azienda IKS PVD, macchina per rivestimento decorativo, macchina per rivestimento utensili, macchina per rivestimento DLC, macchina per rivestimento ottico, linea di rivestimento sottovuoto PVD, il progetto chiavi in ​​mano è disponibile. Contattaci ora, e-mail:iks.pvd@foxmail.com