Classificazione delle tecniche di rivestimento sottovuoto

Classificazione delle tecniche di rivestimento sottovuoto

La tecnologia di rivestimento sottovuoto deposita sulla superficie dei pezzi un film con proprietà caratteristiche. Alcune particelle nello strato di pellicola provengono da solidi e altre da gas. La tecnologia derivata dal solido è chiamata deposizione fisica da vapore, o PVD in breve, e la tecnologia derivata dal gas è chiamata deposizione chimica da vapore, o CVD in breve. Le tabelle 1 e 2 sono le tabelle di classificazione delle due tecnologie di rivestimento.

Tabella 1 Tecnologia di rivestimento sottovuoto con materiale a stato solido -- PVD

Tabella 2 Tecnologia di rivestimento sottovuoto di materiale gassoso Fonte -- CVD

Le seguenti caratteristiche possono essere viste dalle due tabelle: ① La prima placcatura di evaporazione sotto vuoto e la tecnologia CVD a caldo, non c'è processo di scarico. L'arrivo delle particelle di film sul pezzo dipende dall'energia termica dell'evaporazione termica o della reazione termica. ② La tecnologia di scarica si sviluppa dalla scarica a bagliore alla scarica ad arco; (3) Dalla "percentuale del tasso di ionizzazione del metallo" nella tabella PVD, si può vedere che il tasso di ionizzazione del metallo della tecnologia a scarica ad arco è superiore a quello della tecnologia a scarica a bagliore, ovvero, nella tecnologia di rivestimento a scarica ad arco, il numero di le particelle che arrivano allo stato ionico è superiore a quello della scarica luminescente; (4) Nella tecnologia di placcatura con il processo di scarica, viene aggiunta una polarizzazione negativa al pezzo in lavorazione per attrarre ioni metallici per accelerare verso il pezzo in lavorazione. Maggiore è il tasso di ionizzazione del metallo, più ioni energetici raggiungono il pezzo.

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