Confronto delle caratteristiche di scarica a incandescenza e scarica ad arco

Confronto delle caratteristiche della scarica a bagliore e della scarica ad arco

La tabella 3 mostra il confronto delle caratteristiche di scarica tra scarica ad incandescenza e scarica ad arco. Si può capire che PVD e CVD sviluppano la tecnologia di rivestimento con scarica ad arco perché la scarica ad arco può migliorare la densità del plasma nel processo di rivestimento.

▲ Tabella 3 Tabella comparativa delle caratteristiche di scarica ad incandescenza e scarica ad arco

Si può vedere dalla Tabella 3 che la densità di corrente di scarica della scarica ad arco è molto più alta di quella della scarica a bagliore, che fa sì che gli atomi dello strato di pellicola metallica si ionizzino in più ioni, che sono attratti dalla polarizzazione negativa del pezzo a accelerare fino al pezzo in lavorazione e diventare particelle di film ad alta energia.

L'unità di misura dell'energia di uno ione è l'elettronvolt, indicato con "eV". È correlato alla temperatura nella seguente formula, 1eV è uguale all'energia di questa sostanza a 11600K.

1 ev materiale 1,16 x 104 k

Nell'evaporazione sottovuoto e nella tecnologia CVD a caldo, la temperatura delle particelle di pellicola che raggiungono il pezzo è di 1000K~2000K e la sua energia è equivalente a 0,1eV~0,2eV. Tuttavia, la potenza degli ioni che raggiungono il pezzo in lavorazione nel film intermedio di placcatura ionica può andare da 1eV a 100eV e il suo significato è molto alto ed è facile depositare il film composto. La temperatura della deposizione di TiN mediante PVD è diminuita da 1000 gradi a 500 gradi ~ 200 gradi.

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