Placcatura ionica
Dec 27, 2017| La placcatura ionica (IP) è un processo di deposizione fisica in fase vapore (PVD) che viene talvolta chiamata deposizione assistita da ionizzazione (IAD) o deposizione di vapore ionico (IVD) ed è una versione della deposizione sottovuoto. La placcatura ionica utilizza il bombardamento concomitante o periodico del substrato e deposita il film con particelle energetiche di dimensioni atomiche. Il bombardamento prima della deposizione viene utilizzato per pulire a spruzzo la superficie del substrato. Durante la deposizione il bombardamento viene utilizzato per modificare e controllare le proprietà del film depositato. È importante che il bombardamento sia continuo tra le parti di pulizia e di deposizione del processo per mantenere un'interfaccia perfettamente pulita.
Nella placcatura ionica l'energia, il flusso e la massa delle specie bombardanti insieme al rapporto tra particelle bombardanti e particelle depositanti sono importanti variabili di elaborazione. Il materiale di deposito può essere vaporizzato o mediante evaporazione, sputtering (sputtering di polarizzazione), vaporizzazione ad arco o mediante decomposizione di una deposizione chimica da vapore di un precursore di vapore chimico (CVD). Le particelle energetiche utilizzate per il bombardamento sono solitamente ioni di un gas inerte o reattivo o, in alcuni casi, ioni del materiale del film di condensazione ("ioni film"). La placcatura ionica può essere effettuata in un ambiente al plasma dove gli ioni per il bombardamento vengono estratti dal plasma o può essere fatto in un ambiente sotto vuoto in cui si formano ioni per il bombardamento in una pistola a ioni separata. La seconda configurazione di placcatura ionica viene spesso chiamata IBAD (Ion Beam Assisted Deposition). Usando un gas o un vapore reattivo nel plasma, si possono depositare pellicole di materiali compositi.
La placcatura ionica viene utilizzata per depositare rivestimenti duri di materiali composti su utensili, rivestimenti metallici aderenti, rivestimenti ottici ad alta densità e rivestimenti conformi su superfici complesse.
Il processo di placcatura ionica è stato descritto per la prima volta nella letteratura tecnica da Donald M. Mattox dei Sandia National Laboratories (SNL) nel 1964. [1]
