PECVD Sistema automatico di deposizione sottovuoto

Il sistema di deposizione è composto da alimentazione a radiofrequenza, sistema di raffreddamento ad acqua e dispositivo di riscaldamento del substrato. È una parte fondamentale della PECVD. La funzione dell'alimentatore RF è quella di ionizzare il gas di reazione. Il sistema di raffreddamento ad acqua fornisce principalmente il raffreddamento per la pompa meccanica, la pompa Roots, la pompa a secco, la pompa molecolare, ecc. Del sistema PECVD. Quando la temperatura dell'acqua supera la temperatura richiesta del corpo pompa, invierà un segnale di allarme. Per il raffreddamento dei tubi dell'acqua devono essere utilizzati materiali isolanti come tubi di plastica e non devono essere utilizzati tubi di metallo. La funzione del dispositivo di riscaldamento del substrato è quella di riscaldare il campione alla temperatura richiesta dal processo, rimuovere le impurità come il vapore acqueo sul campione e migliorare l'adesione tra la pellicola e il campione.

Azienda IKS PVD, macchina per rivestimento decorativo, macchina per rivestimento utensili, macchina per rivestimento DLC, macchina per rivestimento ottico, linea di rivestimento sottovuoto PVD, il progetto chiavi in ​​mano è disponibile. Contattaci ora, e-mail: iks.pvd@foxmail.com