Materiali PVD
Dec 28, 2017| I materiali di deposizione di vapori fisici o PVD comprendono una gamma di metalli che possono essere utilizzati nei magnetron di polverizzazione per creare film sottili e rivestimenti. Angstrom Sciences offre anche una selezione completa di materiali di deposizione sottovuoto di elevata purezza, tra cui:
Alluminio Rame di alluminio Rame di alluminio Tungsteno Nitruro di alluminio Ossido di alluminio Silicio di alluminio Antimonio Bario Bite ferrite Fluoruro di bario Stronzio di bario titanato Titanato di bario Ossido di bario Berillio Bismuto Lantanio di bismuto Titanio Calcio allo stronzio di bismuto Titanato di stronzio di bismuto Ossido di titanio bismuto Triossido di bismuto Boro Carburo di boro Nitruro di boro Fluoruro di cadmio Ossido di cadmio Cadenio Selenide Solfuro di cadmio Tellururo di cadmio Fluoruro di calcio Ossido di calcio Silicato di calcio Titanato di calcio Carbonio (grafite) Acciaio al carbonio Cerio Ossido di cerio Cromo Chromium Boride Ossido di cromo Cromo Silicio Cobalto Cobalto Cromo Ossido di cobalto Cobalto Silicide Zirconio di cobalto Rame | Solfuro di rame Ossido di rame dysprosium Erbio Europium Gallio Arseniuro di gallio Ossido di gallio Gadolinio Germanio Nitruro di germanio Ossido di germanio Oro Germanio d'oro Palladio d'oro Latta d'oro Zinco dorato Afnio Carburo di afnio Nitruro di afnio Ossido di afnio olmio Inconel indio Ossido di indio Ossido di stagno di indio Iridio Ferro Ossido di ferro Condurre Lantanio Alluminato di lantanio Lantanio Boruro Ossido di lantanio Lanthanum Strontium Ossido di cobalto Lanthanum manganese Ossido Ossido di piombo Titanato di piombo Titanato di zirconio al piombo Ossido Litio Carbonato di litio Ossido di cobalto di litio Niobato di litio | Fosfato di litio Lithium Tantalate Magnesio Fluoruro di magnesio Monossido di magnesio Ossido di magnesio Manganese Molibdeno Molibdeno disulfide Ossido di molibdeno Molibdeno Selenide Molibdeno Silicide Solfuro di molibdeno neodimio Ossido di gallio al neodimio Boruro di ferro al neodimio Nichel Nichel cromo Nichel cobalto Ossido di nichel Nickel Silicide Nichel vanadio Niobio Ossido di niobio Palladio Platino praseodimio Nitruro di boro prilolitico Rhenium rodio Rutenio Samario Cobalto di samario scandio Ossido di scandio Selenio Silicio Carburo di silicio Biossido di silicio Monossido di silicio Nitruro di silicio Argento Ossido d'argento Niobio di bismuto di stronzio Ossido | Stronzio Bismuto tantalio Niobio Lantanio drogato con stronzio Ossido di stronzio Stronzio Titanato Tantalio Carburo di tantalio Nitruro di tantalio Ossido di tantalio Tantalio Silicide Solfuro di tantalio Tellurio Terbio Ferro di terbio Tallio Ossido di tallio Fluoruro di torio Ossido di torio Lattina Ossido di stagno Titanio Boruro di titanio Carburo di titanio Nitruro di titanio Ossido di titanio Silicio di titanio Solfuro di titanio Tungsteno Silicato di tungsteno Solfuro di tungsteno Titanio al tungsteno Vanadio Ossido di vanadio Pent Ittrio Ossido di rame dell'itterio bario Ossido di ittrio Zinco Ossido di zinco Zinco Selenide Solfuro di zinco Zirconio Nitruro di zirconio Ossido di zirconio Silicato di zirconio Ossido di ittrio ossido di zirconio |
Ecco tre fattori che influenzano la qualità e la funzionalità di un film depositato da Physical Vapor Deposition (PVD): la qualità e le prestazioni della sorgente di deposizione, le proprietà e la struttura dei materiali di deposizione e le prestazioni intrinseche e il layout della deposizione sistema e le sue periferiche associate.
Non tutti i materiali sono equivalenti in questi processi poiché la composizione chimica del materiale sorgente è solo il punto di partenza di un processo robusto e specifico per l'applicazione. Livelli di impurità, granulometria, struttura cristallografica / struttura sono solo alcune delle considerazioni che riguardano l'unicità della struttura di una struttura di deposizione adatta.