Il principio di base del rivestimento sottovuoto e del rivestimento ottico

Il principio di base del rivestimento sotto vuoto e del rivestimento ottico

1, il rivestimento sotto vuoto è un aspetto importante del campo dell'applicazione del vuoto, si basa sulla tecnologia del vuoto, sull'uso di metodi fisici o chimici e assorbe fascio di elettroni, fascio molecolare, fascio ionico, fascio di isolamento, radiofrequenza e controllo magnetico e una serie di nuove tecnologie, per la ricerca scientifica e la produzione pratica per fornire una nuova tecnologia di preparazione del film sottile. Semplicemente, l'evaporazione o lo sputtering di metalli, leghe o composti nel vuoto per solidificarli e depositarli sull'oggetto rivestito (chiamato substrato, substrato o matrice).
2. L'interferenza luminosa è ampiamente utilizzata nell'ottica a film sottile. Il metodo comune della tecnologia ottica a film sottile consiste nel rivestire un film sottile su un substrato di vetro mediante sputtering sotto vuoto, che viene generalmente utilizzato per controllare la riflettività e la trasmittanza del substrato al raggio incidente per soddisfare le diverse esigenze. Al fine di eliminare la perdita di riflessione sulla superficie delle parti ottiche e migliorare la qualità dell'immagine, viene rivestito uno strato o più strati della pellicola media trasparente, chiamata pellicola antiriflesso o pellicola antiriflesso.
Con lo sviluppo della tecnologia laser, ci sono diversi requisiti per la riflettività e la trasmittanza del film, che promuovono lo sviluppo di film multistrato ad alta riflessione e film antiriflesso a banda larga. Per varie applicazioni, la pellicola riflettente polarizzata, la pellicola a dispersione di colore, la pellicola a luce fredda e il filtro di interferenza sono realizzate in pellicola altamente riflettente. Dopo che la superficie delle parti ottiche è stata rivestita, la luce viene riflessa e trasmessa molte volte sullo strato di pellicola, formando un'interferenza a più raggi, controllando l'indice di rifrazione e lo spessore dello strato di pellicola e ottenendo una diversa distribuzione dell'intensità, che è il principio di base di rivestimento ad interferenza.

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