Il vantaggio principale di ALD

Uno dei principali vantaggi dell'ALD è la sua capacità di depositare film conformi e uniformi su strutture tridimensionali complesse, comprese strutture ad alto rapporto di aspetto, con un'eccellente copertura a gradini. Ciò rende ALD particolarmente adatto alla produzione di dispositivi microelettronici avanzati, come transistor, condensatori e dispositivi di memorizzazione, in cui il controllo preciso dello spessore e della composizione del film è essenziale per le prestazioni del dispositivo.

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