Principio di funzionamento dell'ALD

ALD funziona esponendo la superficie del substrato a precursori gassosi che reagiscono con la superficie, determinando la deposizione di un singolo strato di materiale. Il processo viene poi ripetuto con un secondo precursore che reagisce con il primo monostrato, portando alla deposizione del secondo monostrato, e così via. Il processo può essere ripetuto tutte le volte necessarie per ottenere lo spessore e la composizione del film desiderati.

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