Confronto tra polarizzazione CC e polarizzazione a impulsi
Aug 14, 2024| Confronto tra polarizzazione CC e polarizzazione a impulsi
La tradizionale placcatura ionica ad arco consiste nell'applicare una polarizzazione negativa CC sul substrato per controllare l'energia del bombardamento ionico. Questo processo di deposizione presenta i seguenti svantaggi: 1. L'elevata temperatura del substrato non è favorevole alla deposizione di una pellicola dura sul substrato con una bassa temperatura di rinvenimento. 2. 3. Il bombardamento ionico ad alta energia provoca uno sputtering grave e i film duri con un'elevata soglia di energia di reazione non possono essere sintetizzati semplicemente aumentando l'energia del bombardamento ionico. 4. Nel processo di placcatura ionica con arco polarizzato CC, per limitare l'eccessiva temperatura del substrato causata dal continuo bombardamento di ioni positivi sulla superficie del substrato, vengono adottate principalmente misure come la riduzione del potere di deposizione, la riduzione del tempo di deposizione e l'adozione di metodi di deposizione intermittente per ridurre la temperatura di deposizione. Queste misure possono essere riassunte come metodi di controllo energetico. Sebbene questo metodo possa ridurre la temperatura di deposizione, riduce anche alcune proprietà della pellicola e riduce anche l'efficienza produttiva e la stabilità della qualità della pellicola, quindi è difficile promuoverne l'applicazione. Nel processo di placcatura ionica con arco di polarizzazione pulsato, poiché gli ioni vengono bombardati dalla superficie del substrato in una modalità di impulso non continuo, il gradiente di temperatura tra il substrato e la superficie può essere modificato regolando il ciclo di lavoro della polarizzazione dell'impulso, quindi il L'effetto di compensazione dell'equalizzazione del calore tra il substrato e la superficie può essere modificato per raggiungere lo scopo di regolare la temperatura di deposizione. In questo modo, l'altezza dell'impulso polarizzato può essere separata indipendentemente dalla temperatura del pezzo (non si influenzano a vicenda o hanno poca influenza) e l'impulso ad alta tensione può essere utilizzato per ottenere l'effetto di bombardamento di ioni ad alta energia per migliorare la l'organizzazione e le prestazioni del film e l'effetto di riscaldamento totale del bombardamento ionico possono essere ridotti riducendo il ciclo di lavoro per ridurre la temperatura di deposizione.
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