Caratteristiche di deposizione del bersaglio elementare e del bersaglio in lega
Sep 02, 2024| Caratteristiche di deposizione del bersaglio elementare e del bersaglio in lega
I rivestimenti quaternari (Cr, Ti, Al) N possono essere preparati mediante co-sputtering di più bersagli elementari o mediante sputtering diretto di bersagli in lega multicomponente. Il vantaggio dei rivestimenti N (Cr, Ti, Al) depositati su target elementari multipli mediante co-sputtering è che ciascun target è indipendente l'uno dall'altro e il contenuto di elementi metallici Cr, Ti e Al nei rivestimenti può essere controllato indipendentemente dal corrente target o potenza target [21], ottenendo così rivestimenti (Cr, Ti, Al) N di diverse proporzioni di composizione [53]. Presenta evidenti vantaggi nella preparazione di film multistrato e film misti. Gli svantaggi di questo metodo sono che ci sono molti parametri regolabili, il riciclaggio multi-target porta a una composizione del rivestimento non uniforme e il rapporto stechiometrico degli elementi nel rivestimento (Cr, Ti, Al) N non può essere controllato accuratamente [54]. Utilizzando il rivestimento quaternario con deposizione del target in lega (Cr, Ti, Al) N, il controllo dei parametri è relativamente semplice e il rapporto di composizione del rivestimento è generalmente vicino a quello del target in lega utilizzato [55], quindi è più facile ottenere il rivestimento quaternario (Cr,Ti,Al)N con composizione uniforme. Tuttavia, a causa delle diverse rese di sputtering di ciascun elemento che costituisce il target della lega durante il processo di sputtering, esiste il problema di selezionare lo sputtering di diversi elementi, quindi il rapporto di composizione del rivestimento è ancora diverso da quello del target della lega [56] . Allo stato attuale, nello studio della preparazione di rivestimenti quaternari (Cr, Ti, Al) N mediante sputtering con magnetron, i target di lega più comuni sono il target AlTi e il target AlCr.
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